Différentes techniques et procédés fédérés au sein de la plateforme
CRHEATEC (www) :
 Salle 100m2 classe 100 à 1000
Aligneurs de masque SET/Karl Süss MA750 (310nm) et Karl Süss MJB3 (365nm)
Tournette Karl Süss RC8 Gyrset et SET TP1120
Microscope Reichert avec acquisition vidéo
3 hottes à flux laminaire classe 100 (développement, résine, chimie)
Deux plafonds soufflants classe 100 pour la lithographie
Bâti RIBER de dépôt par évaporation par effet Joule
Bâti MRC de dépôt par pulvérisation cathodique
Bâti Alliance Comcept EVA 450 de dépôt par canon d’électrons
Profilomètre de surface Veeco Dektak 8
Four de recuit rapide Jipelec Jetfirst 100
Bâti Oxford système 100 RIE-ECR de gravure ionique plasma haute densité
Microsoudure
PLANETE (www) :
Salle 250m2 classe 1000
Lithographie optique (Canon PLA)
Lithographie et dépôt assistés par faisceau d’électrons (MEB JEOL et RAITH)
Dépôt et gravure assistés par faisceau focalisé d’ions (F.I.B. Orsay Physics)
Microscope optique (Nikon)
Profilomètre (Veeco Dektak)
Dépôt de métaux par évaporation (Edwards)
Gravure chimique
Gravure de Si, SiO2 et Si3N4 par plasma - R.I.E. fluorée (Plassys)
Gravure de métaux (Co, Fe, Ni, Ti, Al) par plasma – I.C.P. (Plassys)
Fours d’oxydation et de recuit thermique
Délaqueur plasma oxygène (Nanoplas)
Dépôt de SiO2 et Si3N4 par pulvérisation (bâti Alcatel )
Dépôt des métaux par pulvérisation (bâti Alcatel )
Préparation de membranes nanostructurées
Microsoudure
NANOTECMAT (www) :
Salle 50m2 classe 1000 et 150m2 classe 10000
Dépôt par évaporation de métaux
Aligneur de masque SET MA750
Hotte aspirante et gravure chimique
Hotte à flux laminaire classe 100 pour traitement chimique
Bâti de gravure RIE (CF4/O2)
Insolation holographique
Station FIB (filtrée en masse,Orsay Physics)/MEB (Tescan Lyra)
Four recuit rapide (Jipelec Jet First 200)
Profilomètre 3D (KLA Tencor)
Ellipsomètre spectroscopique (SOPRA)
MEB (JEOL 5400)
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